服务热线: 4000-222-035    市场专线: 18913500435
 

 
产品中心 Products
 联系我们 
  • 市场专线:18913500435
  • 客服热线:4000-222-035
  • 邮箱:info@novtec.com.cn
  •  
  •  
  •  
型号:
时间: 2018 - 12 - 16
磁控溅射系统分多靶共焦、集群式、扫描式,共同特点:l 具有多个溅射靶,可沉积单层、多层薄膜、合金薄膜和掺杂薄膜;l 电源配置可选:直流、射频、直流脉冲。▉扫描式磁控溅射系统▼设备特点l “In-lilne”连续工作l 适用基片范围广,兼容不规则基片l 专利技术长方形阴极靶,膜层均匀性好,靶材利用率高l 具有“Target lifetime”记录功能▼技术指标l 基片盘尺寸:300×300mml 膜厚均匀性:≤5%;选配修正组件,膜厚均匀性可达1%~3%l 膜厚重复性:≤5%▼应用领域扫描式磁控溅射系统应用于光电金属互连、陶瓷基板互连布线、通孔种子层、欧姆接触、3D先进封装布线互连等领域。
型号:
时间: 2018 - 12 - 16
磁控溅射系统分多靶共焦、集群式、扫描式,共同特点:l 具有多个溅射靶,可沉积单层、多层薄膜、合金薄膜和掺杂薄膜;l 电源配置可选:直流、射频、直流脉冲。▉集群式磁控溅射系统▼设备特点l “Cluster tool”连续式在线工作方式l 专利技术圆形阴极靶,膜层均匀性好,靶材利用率高l 具有“Target lifetime”记录功能l 溅射布局:自下而上、自上而下溅射可选l 可选SMIF组件l 可选配基片台高低温控制,适用特殊薄膜制备▼技术指标l 基片尺寸:4~8英寸l 膜厚均匀性:≤3%l 膜厚重复性:≤5%▼应用领域集群式磁控溅射系统应用于半导体硅基器件金属互连、红外器件钝化、金属薄膜电阻、MEWMS欧姆接触、3D先进封装布线互连等领域。
型号:
时间: 2018 - 12 - 16
磁控溅射系统分多靶共焦、集群式、扫描式,共同特点:l 具有多个溅射靶,可沉积单层、多层薄膜、合金薄膜和掺杂薄膜;l 电源配置可选:直流、射频、直流脉冲。▉多靶共焦磁控溅射台▼设备特点l 溅射靶角度可调节l 溅射布局:自下而上溅射、自上而下溅射可选l 基片台可加热,可制备单晶薄膜l 可选配辅助清洗离子源,有效提高薄膜的附着力l 具有小靶材溅射基片的特点▼技术指标l 靶材数量:3个l 基片尺寸:2~8英寸l 基片台转速:5~30rpm,转速连续可调
产品名称: 离子束沉积系统
型号:
时间: 2018 - 12 - 16
▼设备特点l 具备“Load-lock”功能l 专利离子源技术,大束流、高稳定、维护方便l 束流自整定闭环控制、工艺一致性、重复性好l 多靶材自动选择l 基片台高低温(-25~150℃)控制,适用于特殊薄膜制备l 具备基片清洗和辅助沉积功能▼技术指标l 离子源:1500eV(MAX),500mA(MAX)l 溅射靶:一靶四位或三位,自动旋转换位l 基片台:8”,转速0~30rpm可调l 膜厚均匀性:≤3%l 膜厚重复性:≤5%▼ 应用范围离子束沉积系统用于平面基片表面镀制各种金属、非金属、化合物等薄膜材料。如AI、Cu、Au、Pt、Ti、Ni、W、NiCr、TiW、SiO2、AI2O3、ZnO、TaN、ITO等薄膜。适用于光学薄膜制备、欧姆接触制备、功能薄膜材料制备。
Copyright ©2005 - 2020 苏州诺威特测控科技有限公司
犀牛云提供云计算服务
地址:中国江苏省苏州市吴中区吴中大道2588号第一工园 C21 栋
客服热线:4000-222-035
市场专线:18913500435
邮编:330520
5
电话
  • 18913500435
6
二维码
回到顶部